Company Tagline
Ion Beam Deposition
Industry Category
Business Keywords
Company Description
PlasmaParto is a leading innovator in nanotechnology research, specializing in ion beam deposition (IBD), a state-of-the-art technology for thin film deposition. PlasmaParto focuses on providing tight control over film thickness and stoichiometry, producing the highest quality films with excellent precision. The primary address of PlasmaParto is Pardis Technology Park, Tehran, IR.
PlasmaParto designs and fabricates ion sources as well as complete ion beam deposition systems for thin film coating and surface treatment applications. These applications include direct ion beam deposition, single or dual ion beam sputter deposition, ion beam assisted or enhanced deposition [together with traditional methods such as resistive evaporation, electron beam evaporation, magnetron sputtering], ion beam cleaning, ion beam figuring, and ion beam etching.
PlasmaParto is dedicated to advancing the field of nanotechnology and providing cutting-edge solutions to meet the evolving needs of its clients. We invite the manager of PlasmaParto to create a customized and exclusive company showcase and product listing on our platform to further enhance your company's visibility and commercial development.
PlasmaParto est un innovateur de premier plan dans la recherche en nanotechnologie, spécialisé dans le dépôt par faisceau d'ions (IBD), une technologie de pointe pour le dépôt de couches minces. PlasmaParto se concentre sur la fourniture d'un contrôle précis de l'épaisseur et de la stœchiométrie du film, produisant ainsi des films de la plus haute qualité avec une excellente précision. L'adresse principale de PlasmaParto est Pardis Technology Park, Téhéran, IR.
PlasmaParto conçoit et fabrique des sources d'ions ainsi que des systèmes complets de dépôt par faisceau d'ions pour les applications de revêtement de couches minces et de traitement de surface. Ces applications comprennent le dépôt direct par faisceau d'ions, le dépôt par pulvérisation cathodique à faisceau d'ions simple ou double, le dépôt assisté ou amélioré par faisceau d'ions [avec des méthodes traditionnelles telles que l'évaporation résistive, l'évaporation par faisceau d'électrons, la pulvérisation magnétron], le nettoyage par faisceau d'ions, le façonnage par faisceau d'ions et la gravure par faisceau d'ions.
PlasmaParto se consacre à faire progresser le domaine de la nanotechnologie et à fournir des solutions de pointe pour répondre aux besoins en constante évolution de ses clients. Nous invitons le responsable de PlasmaParto à créer une vitrine d'entreprise et une liste de produits personnalisées et exclusives sur notre plateforme afin d'améliorer encore la visibilité de votre entreprise et son développement commercial.
Key Personnel / Employees
Compare Companies Side by Side
Compare PlasmaParto with 1 companies in Nanotechnology-Research
| Comparison Field |
PlasmaPartoMain Company |
nanoWattView Profile |
|---|---|---|
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Founded Year
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— | 2020 |
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Company Size
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— | 2-10 |
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City
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Deinze, Flemish Region | |
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Country
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Skills & Keywords
Comparing with main company
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10 Total Skills
Nanotechnology
Ion Beam Deposition
Thin Film Coating
Surface Treatment
Plasma Technology
Vacuum Technology
Materials Science
Plasma
Vacuum
Ion Beam
|
2 Total
2 Unique
Unique Skills:
Industry 4.0
PACVD
|
2
Total Companies2020
Oldest Founded0
Countries12
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